消耗臭氧层的物质有哪些

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　　消耗臭氧层物质(ODS)主要来源于人工合成的一些含有卤族元素的化合物，它们是造成平流层臭氧损耗的最重要因素，这些造成臭氧层破坏的化合物统称为臭氧层损耗物质。目前的臭氧层损耗物质包括：1、氟氯化碳和哈龙，主要是氟利昂CFC－11、CFC－12等和哈龙Halon－1211、Halon－1301、Halon－2402；2、其他全卤化氟氯化碳，如CFC－13、CFC－111等10种化合物；3、四氯化碳和甲基氯仿；4、氟氯烃类，如HCFC－21、HCFC－22等共74种；5、甲基溴。
        　　在臭氧层的研究和保护过程中，特别受到关注的是氟利昂和哈龙类化合物。科学研究发现，这些物质在对流层中不发生光分解作用，也基本不在对流层被氧化，由于难溶于水，也不易被降水去除。因此这些臭氧损耗物质的大气寿命相当长。科学研究表明，氟利昂类物质也是温室气体，它们吸收红外辐射的能力比二氧化碳要强得多，因此具有破坏臭氧层和影响全球气候变化的双重效应。